全国首台国产商业电子束光刻机在杭“出炉”
我国首台商业电子束光刻机在杭州完成应用测试,精度达到0.6nm,线宽8nm,比肩国际水平,破解量子芯片研发设备卡脖子难题。
杭州城西科创大走廊近日迎来重大技术突破,全国首台国产商业电子束光刻机“羲之”正式进入应用测试阶段。该设备由浙江大学余杭量子研究院自主研发,精度达到0.6nm,线宽8nm,达到国际主流水平,标志着我国量子芯片研发获得关键性工具支撑。
在省重点实验室测试现场,这台形似钢柜的设备正进行精密调试。研发团队将其比作"纳米神笔",其100kV高能电子束可在硅基材料上直接"书写"电路,无需传统掩膜版辅助,特别适用于量子芯片研发初期的设计验证。技术负责人表示,该设备定价较国际市场更具竞争力,已与多家科研机构展开合作洽谈。
此前受国际出口管制影响,中国科学技术大学、之江实验室等机构长期无法获取同类设备。"羲之"的商用化不仅填补国内空白,更构建起完整的国产替代链条。其命名源自书法家王羲之,寓意在纳米尺度实现精妙"笔法"。
技术突破背后是浙江大学与余杭区共建的成果转化体系支撑。今年7月启动的省级教育科技人才改革试点中,校企通过"需求清单-揭榜攻关-全程陪跑"模式,打通实验室到生产线的转化通道。城西科创大走廊已形成院士工作站对接、概念验证项目征集等常态化机制,持续推动科技创新与产业升级深度融合。