鼎龙股份：2026年抛光液业务收入增速预计保持良好态势，成为CMP 板块重要增量

6月25日，鼎龙股份（300054.SZ）发布投资者关系活动记录表。其中指出，公司抛光液业务能够持续实现产品批量落地、营收稳步增长，得益于产品技术持续迭代，多品类工艺性能匹配量产标准。针对成熟制程铜阻挡层抛光液，在颗粒稳定性、整体抛光速率等关键指标上已满足产线量产要求，能够适配国内多条产线配套需求；面向第三代半导体赛道研发的SiC衬底抛光液，可匹配碳化硅衬底高精度镜面加工需求，两大核心品类先后完成验证并收获批量订单，直接打开业务收入增长空间；氧化硅、硅基抛光液及配套清洗液同步推进下游导入，形成多产品同步贡献收入的格局。同时下游应用赛道需求持续扩容，国产化配套需求持续释放。一方面国内晶圆制造厂商持续建设投产，铜制程 CMP 抛光液市场配套规模稳步提升；另一方面碳化硅衬底加工耗材具备广阔市场发展空间，两大高景气赛道为抛光液业务提供长期需求支撑。

垫液协同是公司独有核心优势，公司可向国内头部厂商提供“抛光垫+抛光液 + 清洗液”成套工艺耗材，客户可统一对接单一供应商完成工艺适配、联合调试、售后技术服务，大幅提高客户验证效率；同时内部研发端依托公司七大核心技术平台的长期积淀，新品开发周期大幅缩短，形成客户粘性与技术双重壁垒。2026年抛光液业务收入增速预计保持良好态势，成为CMP 板块重要增量。