捷佳伟创出货光掩膜清洗设备
财闻
2026-07-29 15:13:08
支持前后面全自动清洗、可选AOI颗粒检测、SMIF自动上下料,关键零部件国产化率超80%,软件完全自主开发。
据捷佳伟创(300724.SZ)消息,近日,公司子公司创微微电子(常州)有限公司(简称“创微微电子”)自主研发的光掩模清洗设备在多家终端Fab厂完成验证并实现量产交付,提供的设备在颗粒控制、无水痕、表面洁净度上都满足先进制程要求。在光掩膜清洗领域,创微微电子已形成完整产品矩阵,覆盖5"–9"多种尺寸石英光掩膜,支持前后面全自动清洗、可选AOI颗粒检测、SMIF自动上下料,关键零部件国产化率超80%,软件完全自主开发。

