高端ArF、EUV等先进光刻胶国产替代空间巨大,国风新材直线涨停
财闻
2026-08-10 11:19:04
银河证券研报指出,半导体材料整体国产化率仍不足15%,光刻胶约20%;其中,高端ArF、EUV等先进光刻胶国产化率可能仍处于较低水平,后续国产替代空间值得跟踪。
8月10日,光刻胶概念盘中异动拉升,国风新材(000859.SZ)直线涨停,百合花(603823.SH)、兴福电子(688545.SH)、雅克科技(002409.SZ)、华融化学(301256.SZ)、容大感光(300576.SZ)、怡达股份(300721.SZ)等冲高。
消息面上,银河证券研报指出,半导体材料整体国产化率仍不足15%,光刻胶约20%;其中,高端ArF、EUV等先进光刻胶国产化率可能仍处于较低水平,后续国产替代空间值得跟踪。

