机构:金刚石散热加速进入商业化导入阶段
9月21日,财通证券报告指出,芯片近端散热瓶颈凸显,金刚石方案加速商业化。
9月21日,财通证券报告指出,芯片近端散热瓶颈凸显,金刚石方案加速商业化。
AI芯片功耗与热流密度持续抬升,近端散热材料升级已成为确定性方向。GPU功耗由A100约400W、H100约700W提升至GB200约1200W,Rubin进一步向2000W以上演进,局部热点热流密度向1000W/cm²以上提升。传统铜、铝等散热材料在导热能力与热膨胀匹配方面逼近物理上限。金刚石兼具2000-2200W/(m·K)高热导率、1.0-1.5ppm/K低热膨胀系数及电绝缘特性,是少数可兼顾高热流密度芯片均热、导热与可靠性要求的材料体系之一。
金刚石散热技术路线多元,呈“复合材料先导入、纯金刚石后渗透、器件/晶圆级方案定远期上限”的分层产业路径。短期以金刚石-铜复合材料为主,热导率约550-900W/(m·K),兼顾成本和可加工性,已在联想轻薄本、曙光数创液冷整机柜及郑州超算节点落地;中期CVD多晶金刚石热沉片更易实现大面积生长,热导率可达1200-2000W/(m·K),适配AI服务器、光模块等场景;长期来看,单晶金刚石、GaN-on-Diamond、晶圆级键合、微通道集成等前沿方案仍是性能天花板。
2026年是金刚石散热商业化导入元年,但行业仍处于由工程验证走向规模交付的过渡期。Akash已交付全球首批金刚石冷却NVIDIAH200服务器,Coherent发布金刚石-SiC复合液冷板;国内四方达进入海外客户小批量供货,黄河旋风8英寸热沉片投产并陆续交付。行业已跨过纯实验室阶段,但多数企业仍处送样认证及小批量导入阶段,大尺寸生长、超精密加工与低热阻键合制约规模放量;产业化方向明确,但不同路线及厂商节奏或将分化。
投资建议:金刚石散热加速进入商业化导入阶段,我们认为率先实现技术突破、客户验证及产能落地的核心厂商有望优先受益。建议关注:沃尔德、四方达、黄河旋风、国机精工、力量钻石。

