龙图光罩：拟募资不超14.60亿元，用于40nm-28nm产线建设

10月19日，龙图光罩（688721.SH）接待机构调研。公司为独立第三方半导体掩模版厂商，工艺能力已从130nm提升至65/55nm，并完成40nm生产设备布局。

向特定对象发行A股股票拟募资不超14.60亿元，用于40nm-28nm产线建设，项目总投资约19.54亿元。该发行已取得中国证监会同意注册批复，9月完成募集说明书披露，目前处于发行准备阶段，将择机启动。

产能方面，深圳工厂130nm及以上制程保持规模化量产；珠海一期90nm产品已稳定量产，65/55nm产品送样验证正常推进中，当前处于产能爬坡关键期，当期仍处于亏损状态；珠海二期40nm-28nm产线项目主体厂房已封顶，完全达产后预计新增年产能15,000片。掩模版客户导入验证周期平均约12-18个月，珠海工厂已通过华虹宏力（688347.SH）等多家头部客户审核认证，部分已实现小批量订单交付。

原材料及设备方面，核心原材料石英基板、光学膜高端仍主要依赖进口，高端光刻等设备也以进口为主，公司正积极稳妥推进国产供应商验证与导入。