越南首座芯片厂恐难实现2027年试生产目标，与阿斯麦尚未达成协议

10月26日，财闻海外资讯援引路透社报道，越南首座半导体工厂预计难以按计划在2027年启动试生产。据知情人士透露，越南军工电信集团（Viettel）与荷兰光刻机制造商阿斯麦（ASML.US）就采购芯片制造设备的谈判已持续数月，但尚未达成任何协议。

今年1月，Viettel在河内郊区为该项目举行了奠基仪式，但路透社上周实地探访发现，厂址仍杂草丛生，无任何建筑施工迹象。Planet Labs（PL.US） PBC及空客公司（Airbus）的卫星图像也证实，该地块至今未有建筑物落成。

据一位直接了解项目内情的人士称，由于Viettel缺乏芯片工厂建设经验，加之政府拨款审批流程缓慢，2027年的目标大概率无法实现。该项目虽在政府推动下持续推进，但具体时间表尚不明确。Viettel方面向路透社声明称项目“正按既定计划和进度推进”，将分阶段实施，并承诺适时披露更多信息。

据悉，Viettel与ASML的谈判涉及购买深紫外光刻机（DUV），该设备用于在硅晶圆上印制电路图案。目前尚不清楚谈判未果的原因，以及具体洽谈的DUV机型——这将决定该交易是否受荷兰出口管制约束，并影响潜在成本估算。越南当局此前估计该厂投资规模约13亿美元（约合人民币92.7亿元）。

ASML本月表示，受人工智能热潮带动，其先进设备未来两年可能无法完全满足市场需求，但旧一代设备的供应约束预计较轻。ASML在极紫外光刻机（EUV）领域处于垄断地位，同时也是浸没式DUV系统的第一大供应商，后者市场面临日本尼康（Nikon，7731.T）的竞争。

Viettel在1月的演示材料中曾计划采用32纳米工艺生产芯片，这一起点对芯片制造新手而言颇为激进。相比之下，塔塔电子（Tata Electronics）与台湾力积电（PSMC，6770.TW）合作、投资110亿美元（约合人民币784.5亿元）的古吉拉特邦项目，计划先从55纳米和90纳米工艺起步，再逐步升级至28纳米。Viettel随后从其官网撤下了32纳米的表述，亦未披露是否与成熟芯片制造商建立技术合作。

据行业人士透露，越南政府吸引外资建厂的努力迄今未果。不过，该国在资本投入较低的半导体封装测试（ATP）领域正快速崛起，英特尔（INTC.US）、安靠科技（Amkor Technology，AMKR.O）、韩美半导体（Hana Micron，067310.KQ）均在越南设有大型ATP工厂。此外，Coherent（COHR.US）及VDL Enabling Technologies Group等ASML供应商亦在越南布局业务。