套刻精度≤15纳米！上海微电子中标科技部光刻机项目

12月25日，中国政府采购网公示，上海微电子装备（集团）股份有限公司（简称“上海微电子、SMEE”）中标 zycgr22011903采购步进扫描式光刻机项目，设备数量为一台，成交金额1.1亿元。

据了解，步进扫描光刻是一种混合光刻技术，结合了扫描投影光刻和分步重复光刻的优势。该技术通过动态扫描方式同步移动掩膜版和晶圆，标准曝光尺寸为26mm×33mm，可增大曝光场并一次曝光多个芯片，其具备整个扫描过程的实时聚焦调节能力，适用于0.25μm以下的制造工艺，尤其在0.18μm节点及更先进工艺中广泛应用。

根据企查查信息，《单一来源采购专家论证意见表》显示，招标方为科学技术部的LGGJ实验室，项目金额11300万元。

专家认证意见显示，步进扫描式光刻机具备高分辨率光学成像能力（分辨率≤110nm）和优异的套刻精度（≤15nm），可支持微米乃至亚微米级结构的高均匀性、高稳定性加工。其采用的扫描式曝光方式在确保加工精度的同时，兼具高效率与大尺寸加工优势，工艺一致性和稳定性突出，能够充分满足高密度神经电极阵列对极细线宽和高对准精度的苛刻工艺要求。

在半导体装备领域，光刻机始终处于核心关键设备的地位。目前该市场长期由ASML、尼康和佳能等国际厂商主导，其中先进制程的光刻机甚至对国内实行限购政策，严重制约了我国半导体技术的自主发展。上海微电子作为国内目前唯一具备先进前道光刻机研发与制造能力的企业，其最新机型已可实现分辨率≤110nm、套刻精度≤15nm的性能指标，成为国产高端光刻装备的重要突破。

据企查查app，上海微电子由上海电气控股集团有限公司、张江高科（600895.SH）全资子公司上海张江浩成创业投资有限公司等共同持股。公司官网信息显示，上海微电子主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。公司设备广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造领域。根据上海微电子官网，公司主要光刻设备包括5款。