黄仁勋下周访韩，或讨论与三星、海力士、LG等合作事宜

据韩联社报道，据半导体和信息技术（IT）行业5月28日消息，英伟达（NVDA.US）创始人兼首席执行官黄仁勋将于下周访问韩国。

据业界消息，黄仁勋下周将在台北出席英伟达年度人工智能（AI）开发者大会（GTC Taipei 2026），并在主要行程结束后访问韩国。这将是他继去年10月访问庆州出席亚太经合组织（APEC）工商领导人峰会后，时隔约7个月再次访韩。分析认为，黄仁勋在访台后紧接着访韩，反映出英伟达正强化与韩国的合作关系。

业界预测，黄仁勋在此次访韩期间可能与三星电子、SK海力士等韩国半导体企业讨论高带宽记忆体（HBM）、下一代AI加速器以及晶圆代工等领域合作事宜。业内普遍认为，尽管英伟达目前主导AI加速器市场，但若要确保下一代产品竞争力，仍需在HBM、先进封装和晶圆代工等领域加强与韩国企业的合作。

除半导体领域外，黄仁勋此行还可能与LG、Naver等主要IT企业讨论云计算、物理AI等覆盖整条产业链的AI合作方案。